ALDLanguage परमाणु तह निक्षेपण (ALD)
परमाणु तह निक्षेपण क्रमिक, स्व-सीमित सतह प्रतिक्रियाहरूमा आधारित पातलो-फिल्म निक्षेपण प्रक्रिया हो। पूर्ववर्ती र प्रतिक्रियाशील एक्सपोजरहरू अलग गर्नुहोस्, तिनीहरू बीच शुद्धीकरण चरणहरू सहित, दोहोरिने चक्रहरू मार्फत फिल्महरू निर्माण गर्नुहोस्।
ALD पातलो फिल्महरू हाई-के डाइइलेक्ट्रिक्स, सतह निष्क्रियता, र प्रसार अवरोधहरू जस्ता अर्धचालक अनुप्रयोगहरूमा प्रयोग गरिन्छ। ALD कोटिंगले चयन गरिएका उपकरण घटकहरूको लागि सुरक्षात्मक अवरोध तहहरू पनि प्रदान गर्न सक्छ। फिल्म सामग्री, ज्यामिति, र सेवा अवस्थाहरूले उपयुक्त प्रक्रिया निर्धारण गर्दछ।
डीएलसी हीरा जस्तो कार्बन (DLC)
DLC कोटिंग्सले सटीक अर्धचालक उपकरण घटकहरूको लागि कम-घर्षण, पहिरन-प्रतिरोधी सतहहरू प्रदान गर्दछ। अनुप्रयोगहरूमा शाफ्ट, पिन, स्लिभ, र स्लाइडिङ भागहरू समावेश छन्।
कोटिंग छनोटले सम्पर्क अवस्था, सब्सट्रेट सामग्री, सतहको फिनिश, आयामी सहनशीलता, र सञ्चालन तापक्रमलाई ध्यानमा राख्छ। प्रक्रिया रसायन वा प्लाज्माको सम्पर्कमा आएका घटकहरूलाई थप अनुकूलता मूल्याङ्कन आवश्यक पर्दछ।
C हो? टेट्राहेड्रल अमोरफस कार्बन (ta-C)
ta-C एक कडा कार्बन कोटिंग हो जुन उच्च पहिरन प्रतिरोध र नियन्त्रित सतह गुणहरू आवश्यक पर्ने घटकहरूको लागि प्रयोग गरिन्छ। यसले माग गर्ने सटीक सम्पर्क अनुप्रयोगहरूलाई समर्थन गर्न सक्छ जहाँ सब्सट्रेट समर्थन र कोटिंग आसंजन उपयुक्त छ।
ta-C समाधान छनौट गर्दा कोटिंग मोटाई, अवशिष्ट तनाव, सतह समाप्ति, र घटक ज्यामितिलाई विचार गर्नुपर्छ।
